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半导体与LED

切割（激光）前在晶片上沉积保护层
金属有机化学气相沉积（MOCVD）
原子层沉积（ALD）
超临界流体定量给料和控制（如超临界二氧化碳清洗）
平板显示器（FPD）喷涂

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